トリケミカル研究所
本店:山梨県上野原市上野原8154番地217

【商号履歴】
株式会社トリケミカル研究所(1978年12月6日~)

【株式上場履歴】
<大証JASDAQ>2010年10月12日~
<大証ヘラクレス>2007年8月3日~2010年10月11日(JASDAQに指定替え)

【沿革】
昭和53年12月 無機化学工業製品の製造・精製・販売を目的として、神奈川県相模原市に㈱トリケミカル研究所(資本金2,500千円)を設立
昭和54年12月 光ファイバー用原材料における水分(OH基)の除去に成功、供給を開始する
昭和57年8月 光ファイバー用硼素原材料としての三塩化硼素の合成に成功、供給を開始する
昭和58年2月 三塩化硼素の量産化に成功、半導体用エッチング材料として半導体業界への供給を開始する
昭和59年3月 本社工場を神奈川県愛甲郡愛川町に移転
昭和59年9月 化合物半導体材料としての高純度三塩化砒素の供給を開始する
平成元年2月 半導体用エッチング材料である臭化水素の供給量が増大
平成6年1月 東京都江東区に臭化水素製造の目的でテイサン㈱との合弁で㈱エッチ・ビー・アール(現持分法適用関連会社)を設立
平成6年11月 本社工場を山梨県北都留郡上野原町(現山梨県上野原市)に移転
平成8年3月 大阪府吹田市に関西営業所を開設
平成12年10月 本社工場にて「ISO9001」を取得
平成16年3月 米国カリフォルニア州サンノゼに100%子会社のTCLC, INC. (現連結子会社)を設立
平成16年9月 大韓民国忠清南道公州市にTechno Semichem Co., Ltd.との合弁会社Techno Tri-chem Laboratory Corporation(現持分法適用関連会社)を設立
平成16年12月 台湾新竹縣竹北市に台湾支店を開設
平成18年6月 TCLC, INC.を米国カリフォルニア州サンタクララに移転