【沿革】
昭和54年９月 半導体製造装置の製造及び販売を目的として株式会社サムコインターナショナル研究所を設立
昭和55年７月 国産初のプラズマＣＶＤ（Chemical Vapor Deposition）装置を開発、販売を開始
昭和59年７月 東京都品川区に東京営業所を開設
昭和60年６月 京都市伏見区竹田田中宮町33番地（現藁屋町36番地）に本社を移転
昭和60年６月 米国マーチインスツルメンツ社（現ノードソン社）の製品の販売を開始
昭和62年２月 米国カリフォルニア州にオプトフィルムス研究所を開設
平成２年１月 横浜市港北区に神奈川出張所を開設
平成２年11月 液体ソースによる高速成膜用ＣＶＤ装置の開発、販売を開始
平成３年３月 京都市伏見区に研究開発センターを開設
平成３年12月 京都市伏見区に第二工場を開設
平成５年２月 茨城県土浦市につくば出張所を開設
平成５年９月 愛知県愛知郡長久手町に東海営業所を開設
平成６年２月 米国シンメトリックス社の技術を用いた「強誘電体成膜装置」の製造、販売を開始
平成７年７月 薄膜技術を使った特定フロン無公害化技術の基本技術の開発
平成７年12月 小型、汎用プラズマエッチング装置ＲＩＥ－１０ＮＲの開発、販売を開始
平成８年12月 高密度プラズマＩＣＰエッチング装置ＲＩＥ－１０１ｉＰの開発、販売を開始
平成９年11月
キリンビール株式会社と共同で、プラスチックボトルにＤＬＣ（ダイヤモンド・ライク・カーボン）膜を形成する技術を開発
平成９年11月 小型高密度プラズマＩＣＰエッチング装置ＲＩＥ－２００ｉＰの開発、販売を開始
平成10年３月 広島市安佐南区に広島出張所を開設
平成10年11月 量産型高密度プラズマＩＣＰエッチング装置ＲＩＥ－１０１ｉＰＣの開発、販売を開始
平成10年12月 小型、汎用プラズマＣＶＤ装置ＰＤ－２２０の開発、販売を開始
平成11年７月 サムコエンジニアリング株式会社より、サービス部門の営業を譲受け
平成11年11月 高密度プラズマＩＣＰＣＶＤ装置ＰＤ－１０１ｉＣＰの開発、販売を開始
平成12年１月 英国ケンブリッジ大学内に研究所を開設
平成12年５月 量産型実装用プラズマ洗浄装置ＰＸＡ－２００Ｎの開発、販売を開始
平成13年５月 日本証券業協会に株式を店頭上場
平成13年７月 つくば出張所を営業所（茨城県つくば市）へ拡充
平成13年７月 台湾事務所（新竹市）を開設
平成13年10月 仙台出張所（仙台市青葉区）を開設
平成14年７月 生産技術研究棟（京都市伏見区）の改修工事完了
平成14年７月 広島出張所（広島市安佐南区）を閉鎖
平成14年９月 福岡出張所（福岡県大野城市）を開設
平成15年11月 量産用プラズマＣＶＤ装置ＰＤ－２２０ＬＣの開発、販売を開始
平成15年12月 (独)ロバート・ボッシュ社よりシリコンの高速ディープエッチング技術を導入
平成16年11月 上海事務所（上海市）を開設
平成16年12月 株式会社サムコインターナショナル研究所からサムコ 株式会社へ社名を変更
平成16年12月 株式売買単位を１，０００株から１００株に変更
平成16年12月 日本証券業協会への店頭登録を取消し、ジャスダック証券取引所に株式を上場
平成17年２月 生産機事業部を新設
平成17年５月 汎用研究試作用プラズマＣＶＤ装置ＰＤ－２２０３Ｌ (商品名：クラスターラボ)の開発、販売を開始
平成17年９月 英国ケンブリッジ大学との共同開発「強誘電体ナノチューブの量産技術」を英企業に技術供与
平成17年12月 電子基板洗浄用小型バッチ式プラズマ処理装置ＰＣ－３００の開発、販売を開始
平成18年３月 製品サービスセンターを新設
平成18年５月 ＭＥＭＳ用高速エッチング装置ＲＩＥ－８００ｉＰＢの開発、販売を開始
平成18年９月 中国清華大学とナノ加工技術の共同研究で調印
