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サムコ
本店:京都市伏見区竹田藁屋町36番地

【商号履歴】
サムコ株式会社(2004年12月~)
株式会社サムコインターナショナル研究所(1979年9月1日~2004年12月)

【株式上場履歴】
<東証1部>2014年1月9日~
<東証2部>2013年7月24日~2014年1月8日(1部指定)
<東証JASDAQ>2013年7月16日~2013年7月23日(2部指定)
<大証JASDAQ>2010年4月1日~2013年7月15日(東証に統合)
<ジャスダック>2004年12月13日~2010年4月1日(取引所閉鎖)
<店頭>2001年5月30日~2004年12月12日(店頭登録制度廃止)

【沿革】
昭和54年9月 半導体製造装置の製造及び販売を目的として株式会社サムコインターナショナル研究所を設立
昭和55年7月 国産初のプラズマCVD(Chemical Vapor Deposition)装置を開発、販売を開始
昭和59年7月 東京都品川区に東京営業所を開設
昭和60年6月 京都市伏見区竹田田中宮町33番地(現藁屋町36番地)に本社を移転
昭和60年6月 米国マーチインスツルメンツ社(現ノードソン社)の製品の販売を開始
昭和62年2月 米国カリフォルニア州にオプトフィルムス研究所を開設
平成2年1月 横浜市港北区に神奈川出張所を開設
平成2年11月 液体ソースによる高速成膜用CVD装置の開発、販売を開始
平成3年3月 京都市伏見区に研究開発センターを開設
平成3年12月 京都市伏見区に第二工場を開設
平成5年2月 茨城県土浦市につくば出張所を開設
平成5年9月 愛知県愛知郡長久手町に東海営業所を開設
平成6年2月 米国シンメトリックス社の技術を用いた「強誘電体成膜装置」の製造、販売を開始
平成7年7月 薄膜技術を使った特定フロン無公害化技術の基本技術の開発
平成7年12月 小型、汎用プラズマエッチング装置RIE-10NRの開発、販売を開始
平成8年12月 高密度プラズマICPエッチング装置RIE-101iPの開発、販売を開始
平成9年11月 キリンビール株式会社と共同で、プラスチックボトルにDLC(ダイヤモンド・ライク・カーボン)膜を形成する技術を開発
平成9年11月 小型高密度プラズマICPエッチング装置RIE-200iPの開発、販売を開始
平成10年3月 広島市安佐南区に広島出張所を開設
平成10年11月 量産型高密度プラズマICPエッチング装置RIE-101iPCの開発、販売を開始
平成10年12月 小型、汎用プラズマCVD装置PD-220の開発、販売を開始
平成11年7月 サムコエンジニアリング株式会社より、サービス部門の営業を譲受け
平成11年11月 高密度プラズマICPCVD装置PD-101iCPの開発、販売を開始
平成12年1月 英国ケンブリッジ大学内に研究所を開設
平成12年5月 量産型実装用プラズマ洗浄装置PXA-200Nの開発、販売を開始
平成13年5月 日本証券業協会に株式を店頭上場
平成13年7月 つくば出張所を営業所(茨城県つくば市)へ拡充
平成13年7月 台湾事務所(新竹市)を開設
平成13年10月 仙台出張所(仙台市青葉区)を開設
平成14年7月 生産技術研究棟(京都市伏見区)の改修工事完了
平成14年7月 広島出張所(広島市安佐南区)を閉鎖
平成14年9月 福岡出張所(福岡県大野城市)を開設
平成15年11月 量産用プラズマCVD装置PD-220LCの開発、販売を開始
平成15年12月 (独)ロバート・ボッシュ社よりシリコンの高速ディープエッチング技術を導入
平成16年11月 上海事務所(上海市)を開設
平成16年12月 株式会社サムコインターナショナル研究所からサムコ 株式会社へ社名を変更
平成16年12月 株式売買単位を1,000株から100株に変更
平成16年12月 日本証券業協会への店頭登録を取消し、ジャスダック証券取引所に株式を上場
平成17年2月 生産機事業部を新設
平成17年5月 汎用研究試作用プラズマCVD装置PD-2203L (商品名:クラスターラボ)の開発、販売を開始
平成17年9月 英国ケンブリッジ大学との共同開発「強誘電体ナノチューブの量産技術」を英企業に技術供与
平成17年12月 電子基板洗浄用小型バッチ式プラズマ処理装置PC-300の開発、販売を開始
平成18年3月 製品サービスセンターを新設
平成18年5月 MEMS用高速エッチング装置RIE-800iPBの開発、販売を開始
平成18年9月 中国清華大学とナノ加工技術の共同研究で調印