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レーザーテック
本店:横浜市港北区綱島東四丁目10番4号

【商号履歴】
レーザーテック株式会社(1986年6月~)
日本自動制御株式会社(1962年8月13日~1986年6月)

【株式上場履歴】
<東証1部>2013年3月15日~
<東証2部>2012年3月14日~2013年3月14日(1部指定)
<大証JASDAQ>2010年4月1日~2012年5月11日(上場廃止申請)
<ジャスダック>2004年12月13日~2010年4月1日(取引所閉鎖)
<店頭>1990年12月25日~2004年12月12日(店頭登録制度廃止)

【沿革】
昭和35年7月 東京都目黒区において㈲東京アイ・テイ・ブイ研究所を設立。X線テレビジョンカメラの開発、設計、製造を開始。
昭和37年8月 資本金1,000千円で日本自動制御㈱を設立。X線テレビジョンカメラ及び工業用テレビジョンカメラの開発、設計、製造、販売を主業務とする。
昭和38年8月 神奈川県川崎市木月へ本社を移転。
昭和40年11月 神奈川県川崎市北加瀬へ本社を移転。
昭和46年5月 磁気テープ走行中のテンションを測定する「テンションアナライザー」を開発。
昭和50年2月 フォトマスクのピンホールを発見する「フォトマスクピンホール検査装置」を開発。
昭和50年4月 「顕微鏡自動焦点装置」を開発。
昭和51年10月 LSIのマスクパタンの欠陥を自動検査する「フォトマスク欠陥検査装置」を世界で初めて開発。
昭和55年4月 神奈川県横浜市港北区へ本社を移転。
昭和60年6月 「カラーレーザー顕微鏡」を開発。
昭和61年6月 商号を「レーザーテック株式会社」に変更。
昭和61年7月 子会社㈱レーザーテック研究所を東京都港区に設立。
昭和61年12月 レーザーテック・ユー・エス・エー・インク(現連結子会社)を米国カリフォルニア州サンノゼ市に設立。
昭和62年6月 子会社レーザーテック販売㈱を東京都港区に設立。
平成元年7月 ㈱レーザーテック研究所及びレーザーテック販売㈱を吸収合併。
平成2年12月 日本証券業協会に店頭売買銘柄として株式を登録。
平成5年7月 LCD(液晶ディスプレイ)の突起欠陥等を検査し、修正する「カラーフィルター欠陥検査装置」及び「カラーフィルター欠陥修正装置」を開発。
平成6年11月 位相シフトマスクの位相シフト量を測定する「位相シフト量測定装置」を開発。
平成8年12月 フォトマスクに装着されているペリクル及びフォトマスクの裏面に付着した異物を検査する「ペリクル面異物検査装置」を開発。
平成9年1月 コンフォーカル光学系と優れた画像のハイビジョンを組み合わせた顕微鏡「コンフォーカル・ハイビジョン顕微鏡」を開発。
平成10年8月 半導体ウエハ上の欠陥をマルチビームレーザーコンフォーカル光学系を利用して検査する「ウエハパターン欠陥検査装置」を開発。
平成12年2月 フォトマスクのマスクブランクスの欠陥を検査する「マスクブランクス欠陥検査装置」を開発。
平成13年2月 レーザーテック・コリア・コーポレーション(現連結子会社)を韓国ソウル市に設立。
平成16年12月 日本証券業協会への店頭登録を取消し、ジャスダック証券取引所に株式を上場。