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石山Gateway Holdings
本店:東京都新宿区西新宿七丁目22番27号

【商号履歴】
石山Gateway Holdings株式会社(2013年10月1日~2016年7月6日破産手続開始決定)
株式会社ゲートウェイホールディングス(2012年6月1日~2013年10月1日)
株式会社ゲートウェイ(2010年10月4日~2012年6月1日)
株式会社フォトニクス(1982年12月18日~2010年10月4日)

【株式上場履歴】
<東証JASDAQ-G>2013年7月16日~2015年8月1日(有価証券報告書虚偽記載)
<大証JASDAQ-G>2010年10月12日~2013年7月15日(東証に統合)
<大証ヘラクレス>2001年3月26日~2010年10月11日(JASDAQ-Gに指定替え)

【沿革】
昭和57年12月 東京都豊島区南大塚に株式会社フォトニクスを設立、精密測定機器等の製造販売、輸出入に着手。資本金5,000千円。
昭和58年2月 非接触計測センサ及びシステムの販売を開始。
昭和58年5月 光計測システムの販売とMTF測定システム用ソフトウェア開発を開始。
昭和60年3月 ㈶研究開発型企業育成センターの債務保証により、ロータリーエンコーダ原板作成システムを完成。
昭和62年4月 英国エルコメーター社の膜厚計を始めとする塗装関連機器の輸入及び販売を開始。
平成3年3月 東京農工大学と産学融合で投影パターンのコントラスト変化を利用した変位計測器の研究開発を開始。
平成4年3月 長野県長野市に長野工場を新設。
平成5年3月 英国イメージサイエンス社の日本総代理権を得て、次世代MTF測定装置の販売を開始。
平成6年4月 関東通商産業局より技術改善費等補助金の交付を受け、液晶用スペーサ散布装置の開発に着手。
平成7年4月 ドイツ、シュメザール社の日本総代理権を得て、CEマーキング対応安全スイッチの輸入及び販売を開始。
平成7年4月 東京工芸大学にMTFラボを開設し、眼内レンズの共同開発を開始。
平成8年7月 新型光ファイバー方式非接触微小変位計フォトマイクロン・ナノセンサを完成。
平成8年12月 資本金を183,100千円に増資。
平成9年4月 長野工場を長野開発センターへ名称変更。
平成10年7月 大阪営業所を大阪府大阪市北区に開設。
平成10年11月 新型静電容量方式センサ(PSセンサ)の販売を開始。
平成11年9月 大阪営業所を廃止し、京都府京都市左京区に関西営業所を開設。
平成12年4月 資本金を345,100千円に増資。
平成12年10月 長野開発センター増床とともに、長野工場へ名称変更。
平成12年10月 市場調査のために、ヨーロッパ駐在員事務所としてEUフォトニクスをドイツ(ベンツハイム市)に開設。(平成13年12月撤退)
平成12年12月 テクニカルセンターを長野県長野市に開設。
平成13年3月 大阪証券取引所 ナスダックジャパン市場(現 大阪証券取引所ニッポン・ニュー・マーケット―「ヘラクレス」市場)へ上場。資本金727,600千円に増資。
平成13年3月 関西営業所を廃止し、大阪府大阪市淀川区に大阪営業所を開設。
平成13年4月 横浜営業所、横浜テクニカルセンターを神奈川県横浜市鶴見区に開設。
平成13年7月 機械安全工学を目的とする寄附講座を長岡技術科学大学へ提供。
平成13年10月 超精密塑性加工事業等を目的とし、㈱SPCを東京都杉並区に設立。
平成14年6月 半導体検査装置の製造を目的とする連結子会社 ㈱ナノテックスを新潟県長岡市に設立。
平成14年9月 東京本社事務所を東京都大田区に移転。
平成15年7月 ㈱フォトニクスを持ち株会社としたホールディングカンパニー制へ移行。
平成15年7月 情報機器、液晶検査装置の製造を目的とする連結子会社 ㈱WAVEを東京都大田区に設立(会社分割)。
平成15年9月 電子材料の販売を目的とする㈱オー・エヌ・シーの株式を取得し、連結子会社とする。
平成15年10月 精密測定機器、電子部品の販売を目的とする連結子会社 ㈱フォトニクスソリューションを東京都杉並区に設立。
平成16年12月 ㈱WAVEの情報機器事業を㈱ナノテックスへ移管(会社分割)。
平成17年2月 ㈱フォトニクスソリューションは㈱WAVEを吸収合併(存続会社は㈱フォトニクスソリューション)。
平成17年7月 不動産賃貸及び投資を目的とする連結子会社 ㈱PCIを東京都大田区に設立。
平成17年12月 連結子会社㈱PCF、㈱フォトニクス・オプトメディカルを東京都新宿区に設立。
平成17年12月 連結子会社㈱フォトニクス・エンジニアリングを東京都大田区に設立。
平成18年2月 東京都新宿区に本社を移転。