※上記の広告は60日以上更新のないWIKIに表示されています。更新することで広告が下部へ移動します。

ホロン
本店:東京都新宿区新宿二丁目5番5号

【商号履歴】
株式会社ホロン(1985年5月1日~)

【株式上場履歴】
<大証JASDAQ>2010年4月1日~
<ジャスダック>2005年2月9日~2010年4月1日(取引所閉鎖)

【沿革】
昭和60年5月 東京都新宿区に㈱ホロンを設立 資本金 33,000千円
昭和60年11月 東京都狛江市にテクニカルセンターを設立
昭和61年10月 電子ビーム微小寸法測定装置(ESPA-11)を開発・発表
平成元年12月 電子ビーム微小寸法測定装置をモデルチェンジし、ESPA-21を発表
平成4年9月 電子ビーム微小寸法測定装置をモデルチェンジし、ESPA-31を発表
平成7年12月 電子ビーム微小寸法測定装置をモデルチェンジし、ESPA-51を発表
平成8年3月 テクニカルセンターを狛江市から埼玉県所沢市に新設・移転
平成9年12月 電子ビーム微小寸法測定装置をモデルチェンジし、ESPA-61を発表
平成10年12月 マスク用電子ビーム微小寸法測定装置EMU-200、-300を開発・発表
平成10年12月 ステンシルマスク検査技術(特許)を確立、発表
平成11年1月 EMU-200を海外に出荷開始
平成11年12月 磁気ヘッド形状測定装置EMR-100を完成
平成11年12月 電子ビーム微小寸法測定装置をモデルチェンジし、ESPA-71を発表
平成12年12月 マスク用電子ビーム微小寸法測定装置をモデルチェンジし、EMU-220、-330を発表
平成13年4月 電子ビーム微小寸法測定装置の顧客と電子ビーム技術を利用した次世代半導体検査装置の共同開発・研究契約の締結
平成13年8月 EMU-220の出荷開始
平成14年2月~4月 欧米地区の販売・アフターサービスについて、EB描画装置メーカーである日本電子㈱及び東芝機械㈱(分社化後、現㈱ニューフレアテクノロジー)と業務提携
平成14年9月 マスク用電子ビーム微小寸法測定装置、海外向けバージョンとしてEMU-220Aを発表
平成15年4月 EMU-220A、海外に出荷開始
平成15年4月 本社ビル移転(東京都新宿区は変わらず)
平成16年4月 韓国支店を開設
平成16年10月 マスク用電子ビーム微小寸法測定装置EMU-250を開発・発表
平成17年2月 株式会社ジャスダック証券取引所に株式を上場
平成17年8月 マスク用電子ビーム微小寸法測定装置EMU-270を開発・発表
平成17年8月 超解像欠陥検査装置DIS-05を開発・発表
平成18年11月 LED(発光ダイオード)生産用パターン転写装置電子スタンパーEBLITHOを開発・発表